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FINE CHEMICAL / Semiconductor Chemicals
 
 

◆특징
▷ 반도체 공정용 약품.

◆사양
▷반도체 Grade
 
Grade 이용 방법.PNG     
   
CT-2200-01 - 염산 / Linear Formula:HCl / CAS No.:7647-01-0 / Assay:35-37.0% / Package:4kg 견적 문의
CT-2300-01 - 인산 / Linear Formula:H3PO4 / CAS No.:7664-38-2 / Assay:85% / Package:6kg 견적 문의
CT-2300-02 - 인산 / Linear Formula:H3PO4 / CAS No.:7664-38-2 / Assay:85%(大) / Package:25Kg 견적 문의
CT-2400-01 - LAL1000 / Etching Solution For Silicon Oxide Layers / SA-X 20Kg 견적 문의
CT-2500-01 - 아세톤 / Linear Formula:CH3COCH3 / CAS No.:67-64-1 / Assay:99.8% / Package:4L 견적 문의
CT-2600-01 - 이소프로필알콜 / Linear Formula:(CH3)2CHOH / CAS No.:67-63-0 / Assay:99.9% / Package:4L 견적 문의
CT-2700-01 - 메탄올 / Linear Formula:CH3OH / CAS No.:67-56-1 / Assay:99.9% / Package:4L 견적 문의
CT-2800-01 - 에탄올 / Linear Formula:C2H5OH / CAS No.:64-17-5 / Assay:99.8% / Package:4L 견적 문의
CT-2900-01 - 암모니아수 / Linear Formula:NH3 / CAS No.:1336-21-6 / Assay:30% / Package:18Kg 견적 문의
CT-3000-01 - 과산화수소수 / Linear Formula:H2O2 / CAS No.:7722-84-1 / Assay:30~32% / Package:4Kg 견적 문의
CT-3000-02 - 과산화수소수 / Linear Formula:H2O2 / CAS No.:7722-84-1 / Assay:30~32% / Package:20Kg 견적 문의
CT-3100-01 - 황산 / Linear Formula:H2SO4 / CAS No.:7664-93-9 / Assay:89~97% / Package:7Kg 견적 문의
CT-3100-02 - 황산 / Linear Formula:H2SO4 / CAS No.:7664-93-9 / Assay:89~97% / Package:25Kg 견적 문의
CT-3200-01 - 질산 / Linear Formula:HNO3 / CAS No.:7697-37-2 / Assay 65~75% / Package : 5Kg 견적 문의
AsahiKASEI / Photosensitive Dielectric Materials
 
 

◆Description​​

▷PIMEL™ is a photosensitive PI material that is used worldwide for semiconductor applications 

    such as buffer coatings, passivation layers for bumping, and dielectric layers for re-distribution 

    bumping.

    It has outstanding heat / chemical resistance and electronic / mechanical properties, and is available

    in various grades that can be used for purposes such as advanced packaging.​ ​
   
AKP-BL301-1 BL-301 PIMEL™ BL-301 1kg 2,300,000(VAT별도)
CHEMICAL / 산, 알칼리 중화제
 
 

 

◆특징
▷산, 알칼리 중화제로 특화된 제품.

▷작업장내에 산 , 알칼리 누출시 효과적인 중화 작업이 가능합니다.​


◆사용방법 및 보관
▷상온에 비치하였다가 산, 알칼리 누출시 1:10비율로 중화한다.


  
   
NI-0100-01 중화제A-600 산중화제, 스프레이식, 600ml 13,000(VAT별도)
NI-0200-01 중화제B-600 알칼리 중화제, 스프레이식, 600ml 14,000(VAT별도)
NI-0100-02 중화제A-10L 산중화제, 10L 130,000(VAT별도)
NI-0200-02 중화제B-10L 알칼리 중화제, 10L 140,000(VAT별도)
DESICCATOR / Vacuum Desiccator
 
 

◆특징
▷다이아프램형 드라이 진공 펌프, 가스 치환용 밸브를 내장하고 있기 때문에, 배관 등의 수고가 불필요합니다.

◆사양
▷재질 : 투명 강화아크릴, 스틸
▷가스 치환용 접속구 : φ6㎜ 나일론 fitting
▷중량 : 21kg
 # 내장 진공 펌프

▷진공 도달 압력 : 5.3kPa (40Torr)

▷배기 속도(50/60Hz) : 20/24L/min

▷전원 : AC 100V 50/60Hz

▷전원 코드 길이 : 3m(3P플러그)

 

◆부속품
▷아크릴 선반 2장
▷진공밸브 : 외경φ8㎜ 2개 
   
LL1-7546-11 VL-ALN 외치수 : 300 x 222 x 570mm,내치수 : 260 x 180 x 260mm, 부속품 : PMMA(아크릴) 선반 2장 견적 문의
DisChem / Photo & E-beam Resist
 
 

​◆Description

​​

▷H-SiQ is characterized by excellent pitch resolution, sensitivity and etch resistance for 

   direct write thin film EBL applications.

 

▷​DisChem H-SiQ is a negative tone hydrogen silesquioxane resist derived from dry silica 

   resin (H-SiOx) in MIBK carrier solvent for use in electron beam lithography (EBL).

 

▷​Thickness: 25 nm - 800 nm​

​
   
DC-HSIQ6% H-SiQ 6% 25ml 1,750,000(VAT별도)
DC-HSIQ6% H-SiQ 6% 50ml 3,500,000(VAT별도)
1.2.3.4.5.6.7.8.9.10